Введение в специальность

Утверждена

• 
  структуру вуза;
  
• 
  права, обязанности и правила поведения;
  

• 
  методику приобретения знаний;
  
• 
  навыки работы с литературой.
  

1. 
   История развития микроэлектроники.
   
2. 
   Микроэлектроника и ее связь с другими науками.
   
3. 
   Области применения микроэлектроники.
   
4. 
   Тенденция развития микроэлектроники.
   
5. 
   Микроэлектроника и современность.
   
6. 
   Технологические особенности микроэлектроники.
   
7. 
   Конструктивные особенности микроэлектроники.
   
8. 
   Физические основы микроэлектроники.
   
9. 
   Базовые процессы в микроэлектронике.
   
10. 
    Полупроводниковая микроэлектроника.
    
11. 
    Тонкопленочная микроэлектроника.
    
12. 
    Толстопленочная микроэлектроника.
    
13. 
    Функциональная микроэлектроника.
    
14. 
    Оптоэлектроника.
    
15. 
    Акустоэлектроника.
    
16. 
    Магнетоэлектроника.
    
17. 
    Методы получения толстых пленок.
    
18. 
    Методы получения тонких пленок.
    
19. 
    Способы получения диэлектрических пленок.
    
20. 
    Электронно-лучевое напыление.
    
21. 
    Способы получения формы элементов ИС.
    
22. 
    Фотолитография.
    
23. 
    Фотошаблоны.
    
24. 
    Получение формы элементов с помощью масок.
    
25. 
    Электронно-лучевая литография.
    
26. 
    Подложки ИС и их очистка перед напылением.
    
27. 
    Методы выращивания монокристаллов.
    
28. 
    Методы очистки монокристаллов.
    
29. 
    Химическая очистка поверхности полупроводниковых пластин.
    
30. 
    Ионное травление полупроводниковых пластин.
    
31. 
    Механическая обработка поверхности пластин.
    
32. 
    Окисление поверхности пластин.
    
33. 
    Окисление в парах воды.
    
34. 
    Сухое окисление.
    
35. 
    Выращивание монокристаллов из расплава.
    
36. 
    Выращивание монокристаллов из раствора.
    
37. 
    Выращивание монокристаллов из газовой фазы.
    
38. 
    Эпитаксия.
    
39. 
    Легирование
    
40. 
    Имплантация.
    
41. 
    Термическое напыление.
    
42. 
    Катодное распыление.
    
43. 
    Технология создания тонкопленочных ИС.
    
44. 
    Методы изоляции элементов полупроводниковых ИС.
    
45. 
    Элементы пленочных ИС.
    
46. 
    Униполярные транзисторы.
    
47. 
    Интегральные диоды.
    
48. 
    Биполярные транзисторы.
    
49. 
    Полупроводниковые резисторы.
    
50. 
    Полупроводниковые конденсаторы.
    
51. 
    Логические элементы на биполярных транзисторах.
    
52. 
    Логические элементы на МДП-транзисторах.
    
53. 
    Запоминающие устройства.
    
54. 
    Операционные усилители.
    
55. 
    Аналоговые устройства в микроэлектронике.
    
56. 
    Логические операции в микроэлектронных устройствах.
    
57. 
    Гибридные ИС.
    
58. 
    Технологический процесс создания ИС на МОП-транзисторах.
    
59. 
    Технологический процесс получения тонкопленочных ИС.
    
60. 
    Технология получения толстопленочных ИС.
    
61. 
    Технологический процесс создания ГИС.
    
62. 
    Технологический процесс получения СБИС.
    
63. 
    Технологический процесс создания БИС.
    
64. 
    Технология полупроводниковых ИС на биполярных транзисторах.
    
65. 
    Материалы для получения ИС.
    
66. 
    Сборочные операции при создании ИС.
    
67. 
    Свободные темы по вопросам МЭ (по согласованию с преподавателем).
    

ОСНОВНАЯ

1. 
   Устав Белорусского государственного университета информатики и радиоэлектроники. – Мн., 1995.
   
2. 
   Степаненко И.П. Основы микроэлектроники. – М.: Сов. радио, 1980.
   
3. 
   Березин А.С., Мочалкина О.Р. Технология и конструирование интегральных микросхем. – М.: Радио и связь, 1983.
   
4. 
   Козырь И., Ефимов И.Е., Горбунов Ю.М. Микроэлектроника. – М.: Высш. шк., 1986.
   
5. 
   Пасынков В.В. Материалы электронной техники. – М.: Высш. шк., 1980.
   
6. 
   Готра З.Ю. Технология микроэлектронных средств. – М: Радио и связь, 1991.
   

1. 
   Пичугин И.Г., Таиров Ю.М. Технология полупроводниковых приборов. –М.: Высш. шк., 1984.
   
2. 
   Тугов Н.М., Глебов Б.А., Чарыков Н.А. Полупроводниковые приборы. –М.: Энергомашиздат, 1990.
   
3. 
   Агаханян Т.М. Интегральные микросхемы. –М.: Энергоатомиздат, 1983.
   
4. 
   Расадо Л. Физическая электроника и микроэлектроника. – М.: Высш. шк., 1991.
   
5. 
   Игулыюв Д.В., Королев Г.В., Громов И.С. Основы микроэлектроники. – М.: Высш. шк., 1991.
   
6. 
   Аваев Н.А., Наумов Ю.Е., Фролкин В.Т. Основы микроэлектроники. – М.: Высш. шк., 1991.
   
7. 
   Аваев Н.А., Наумов Ю.Е., Фролкин В.Т. Основы микроэлектроники. – М.: Радио и связь, 1991.
   
8. 
   Технология СБИС /Под ред. Ю.Д.Чистякова. – М.: Мир, 1986.
   
9. 
   Курносов А.И. Материалы для полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. – М.: Высш. шк., 1980.
   
10. 
    Казанцев А.П. Электротехнические материалы. – М.: Дизайн ПРО, 1998, 2001.